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為什么CT探測器是一塊一塊的?
發(fā)布者:管理員   |   發(fā)布時間:2021-03-25   |   所屬分類:資訊動態(tài)   |   閱讀次數(shù):4092
作為影像人,您肯定見過平板探測器,下圖是DR平板探測器,就是一塊“平板”。胃腸機/DSA的其實也長這樣,只不過她們的是動態(tài)平板,尺寸也沒這么大。



而CT探測器長這樣的,屬于一小塊一小塊的,更多請參考:“設(shè)備拆解法:圖文分析CT探測器的參數(shù),以及“層”的實現(xiàn)”

同樣是探測器,差別怎么這么大?這個問題也困擾我很久,今天解決。

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閃爍體

不管平板探測器還是CT探測器,其原理都下圖(請參考“一文盤點CT探測器的核心技術(shù)”),核心的都是閃爍體

閃爍體,這是一種神奇的材料,她能將X射線轉(zhuǎn)換成可見光,稱之為“閃爍效應(yīng)”。不止X射線,還有γ射線,高能粒子等。因此,閃爍體廣泛應(yīng)用在X射線成像、核醫(yī)學(xué)成像、高能物理等。
醫(yī)學(xué)成像的閃爍體是無機閃爍體,包括閃爍晶體、閃爍玻璃,閃爍陶瓷,閃爍氣體燈。其中,閃爍晶體主要應(yīng)用在平板探測器,閃爍陶瓷主要應(yīng)用在CT探測器上。關(guān)于閃爍陶瓷,上一篇已詳細(xì)介紹。



關(guān)于閃爍晶體,以著名的碘化銫(CsI)非晶硅平板探測器為例,其閃爍體是碘化銫;非晶硅(a-Si)是指基底材料,包括光電轉(zhuǎn)換層和TFT陣列。
除碘化銫外,部分平板探測器還使用“硫氧化釓”作為閃爍體
除非晶硅外,還有非晶硒、CMOS、IGZO等技術(shù),其中非晶硅因技術(shù)簡單、成本低等原因,是目前應(yīng)用較廣泛的
在平板探測器領(lǐng)域,萬睿視(Varex)、泰雷茲(Trixell)、佳能較著名的;我國的奕瑞平板也非常不錯,是全球極少數(shù)幾家同時掌握非晶硅、CMOS、IGZO三種技術(shù)路線的探測器公司之一。

2

普放/CT的閃爍體

閃爍體是從礦物質(zhì)中提煉出來的,原始的樣子是“粉末”。從粉末變成閃爍體的過程叫“生長”。舉個栗子,粉筆,從“粉筆末”變成“整根粉筆”,就是“生長”。但,“生長”沒這么快,更合適的栗子是古時候的“煉丹”:丹砂燒之成水銀,積變又還成丹砂。整個“生長”過程堪稱“點石成玉”。玉,即閃爍體!

回到標(biāo)題:為什么平板探測器是整塊的,CT探測器是一小塊一小塊的?
因為,閃爍體不同!
以碘化銫閃爍體為例,她是立方晶體,對稱程度高,方便長出較大尺寸的晶體。比如,采用傳統(tǒng)的“下降法”能燒制成大尺寸的碘化銫閃爍體,如直徑9cm,長35cm。早期的平板探測器良品率很低,會采用4小塊拼出一整塊,現(xiàn)在工藝成熟,晶體薄膜化,普遍都是整塊探測器。

CT探測器的閃爍體是閃爍陶瓷,優(yōu)點很多,但陶瓷是脆性材料,大塊燒結(jié)成品率低,像平板探測器那種大尺寸不太現(xiàn)實。下圖是中科院寧波所的大尺寸陶瓷閃爍體:Superlight,可以感受下CT“大尺寸”閃爍體和DR“大尺寸”的差別。所以,CT探測器一小塊一小塊的,屬于現(xiàn)實原因。

不過,模塊化探測器非常好的事,比如飛利浦CT有42個探測器模塊,壞一個更換一個,維護(hù)成本低。
閃爍陶瓷和觀賞用陶瓷器不同,她是稀土陶瓷,即,在閃爍陶瓷中加入稀土元素,使閃爍體性能更好。
性能,是由參數(shù)決定的!

3

補充:閃爍體性能

下表出自“一文讀懂CT探測器的核心技術(shù)”,這是CT閃爍體的核心參數(shù)。上期限于篇幅,未做詳細(xì)介紹。本篇補上,如對此參數(shù)無興趣,可直接跳過。

1)衰減速度
X線停止后,閃爍體的發(fā)光強度下降到初始強度的時間。幾乎在所有的閃爍計數(shù)都要求具有較快的衰減速度,可較大程度消除能量累積造成的重影。
2)余暉
X線停止一段時間(通常為幾毫秒)后的殘余光強度。在 CT等快速成像領(lǐng)域,閃爍體的余暉性能非常關(guān)鍵。因為余暉較長,圖像中產(chǎn)生偽影,會大大降低成像精度,導(dǎo)致重構(gòu)圖像的變形和失真。
3)發(fā)光效率
又叫光產(chǎn)額(光輸出),表示在一次閃爍過程中產(chǎn)生的光子數(shù)目與帶電離子在閃爍晶體中損失的能量之比(p/MeV)。光產(chǎn)額越高,說明在接收相同能量之后,釋放的有效光子數(shù)越多,探測器接收到的光子數(shù)越多,X線轉(zhuǎn)換效率就越高,CT越綠色”低劑量。
4)密度
又稱X線阻止能力。希望所有入射到閃爍體的 X射線都被吸收,因為不充分的吸收會導(dǎo)致許多有害的效應(yīng)。高密度的閃爍體能在較短的距離內(nèi)阻止住 X 線。
5)輻照損傷
閃爍體長時間在大劑量高能輻照環(huán)境下工作,不可避免地產(chǎn)生色心、晶格原子位移或逸出等缺陷,會降低閃爍性能,甚至可能造成永久損傷。

此外,還有閃爍體透明性、光譜區(qū)域、物理化學(xué)性質(zhì)的穩(wěn)定性等。咱們不做研發(fā),了解以上足夠。